AP&S International GmbH ist ein führender Anbieter von Batch- und Single-Wafer-Nassprozesslösungen zur Oberflächenbehandlung von Substraten unter Reinraumbedingungen.
Unser Produktportfolio umfasst manuelle, halbautomatische und vollautomatische Nassprozessanlagen für das Reinigen, Trocknen, Ätzen, Stripping und Plating von Substraten (wie Silizium, Galliumarsenid, Germanium, Saphir usw). Diese finden Ihren Einsatz bei Kunden in der Halbleiter-, MEMS- und Mikrostrukturierungsindustrie sowie im Forschungs- und Entwicklungssektor weltweit.
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